




產(chǎn)品簡介
日本SIGMAKOKI西格瑪光機超級反射鏡,采用了離子束濺射(IBS)鍍膜方式,獲得了細密而無缺陷的高質(zhì)量光學(xué)膜。反射鏡基板采用特殊的高精密拋光技術(shù)制造,其表面粗糙度小于Ra0.1nm的低散亂基板。
產(chǎn)品分類
日本SIGMAKOKI西格瑪光機超級反射鏡
采用了離子束濺射(IBS)鍍膜方式,獲得了細密而無缺陷的高質(zhì)量光學(xué)膜。
反射鏡基板采用特殊的高精密拋光技術(shù)制造,其表面粗糙度小于Ra0.1nm的低散亂基板。
發(fā)揮多年積累的光學(xué)薄膜設(shè)計經(jīng)驗,實現(xiàn)了高達99.999%的高反射率。
基板和光學(xué)膜的散亂損失非常小,用其構(gòu)建法布里-珀羅腔的話,可得到非常窄的光譜帶寬和高銳度。
有使用波長為532nm和1064nm的兩個系列。
日本SIGMAKOKI西格瑪光機超級反射鏡
| 材料 | 合成石英 | ![]() |
|---|---|---|
| 鍍膜 | 正面 電介質(zhì)高反射多層膜 反面 電介質(zhì)防反射多層膜 | |
| 入射角 | 0° | |
| 基板面型精度 | λ/10 | |
| 平行度 | <5″ | |
| 表面質(zhì)量 | 10-5 | |
| 有效直徑 | 外徑的80% | |
| 反面反射率 | <0.15% | |
| 形狀 | 平面基板 |







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